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  • 檢索結果:共9筆資料 檢索策略: "Chun-Hui Chung".ecommittee (精準) and year="106"


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    1

    添加劑對於不同基礎油與不同材料之磨潤性能的影響
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 陳又嘉 指導教授: 林原慶
    • 本文目的在於探討不同濃度的磷系(P)、硫系(S)及二烷基二硫代磷酸鋅(zinc dialkyl dithiophsphates, ZDDP)添加劑對聚烷基二醇合成油(Polyalkylene gly…
    • 點閱:315下載:0
    • 全文公開日期 2023/07/26 (校內網路)
    • 全文公開日期 2028/07/26 (校外網路)
    • 全文公開日期 2028/07/26 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    2

    NX二次開發之在線式自由曲面誤差補償法之研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 李育茲 指導教授: 李維楨
    • 目前工業界在二維路徑補償可透過CNC 控制器做內建磨耗補正、手動偏移NC 加工路徑,甚至使用外部程式運算來達到更精確之加工尺寸。但在三維曲面補償,現階段一般CNC 控制器是無法做尺寸補正,隨著曲面應…
    • 點閱:259下載:0
    • 全文公開日期 2023/08/22 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    3

    取栓支架雷射切割後製程的改善與探討
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 黃昱翔 指導教授: 張復瑜
    • 取栓支架屬於魚簍型金屬支架,主要用於治療血管阻塞所造成的缺血性腦中風,其方法為使用金屬支架將堵住動脈之血塊取至引導導管,再隨引導導管取出體外。常用的材料為具有良好生物相容性的鎳鈦合金。 此篇論文研究…
    • 點閱:238下載:0
    • 全文公開日期 2023/08/16 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    4

    自製拋光球對STAVAX模具鋼應用於CNC車銑複合工具機表面精加工之研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 洪詩函 指導教授: 修芳仲
    • 摘要 本研究主要探討自製拋光球對STAVAX模具鋼於CNC車銑複合工具機進行表面精加工之研究。精加工參數使用先期研究之最佳球擠光、球拋光加工參數組合,研究五種型號之自製拋光球對表面精度影響,最後將最…
    • 點閱:288下載:1

    5

    輔助電極於線放電加工多晶矽之多指標最佳化研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 江銨畯 指導教授: 郭俊良
    • 本研究為使用鋁合金輔助電極於多晶矽工件進行線放電加工,並觀測使用輔助電極時,多晶矽之材料移除率、表面粗糙度、表面合金化之加工表面。實驗前先以焦耳熱模型計算加工時所需之放電能量,並控制操作參數於區間包…
    • 點閱:378下載:1

    6

    碳纖維強化聚酯複合材料之繞切成型研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 柯舜凱 指導教授: 郭俊良
    • 編織型式之碳纖維強化聚酯(Woven Carbon Fiber Reinforced Plastics)複合材料,具有高的纖維佔比(Volume fraction: ~58%),高比強度(2.5-4…
    • 點閱:297下載:2

    7

    線放電成形與同步銳利化多晶鑽石刀具之最佳化研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 彭為駿 指導教授: 郭俊良
    • 本研究使用線電極放電,用以切削多晶鑽石材料,並製作鑽石刀 具。再以線電極加工,對此刀具進行銳利化,同時對材料移除率、表 面粗糙度、刀尖半徑以及波動層進行最佳化之研究。此製程為鑽石線 鋸用以成形刀片及…
    • 點閱:494下載:2

    8

    自製內含氧化鋁粉橡膠球作STAVAX不鏽模具鋼之自動化表面精加工研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 潘建男 指導教授: 修芳仲
    • 本論文研究目的為於三軸、五軸CNC切削中心機上發展自動化拋光製程輔以自製內含氧化鋁粉之橡膠拋光球,以此對STAVAX鏡面模具鋼找出球拋光最佳道次組合,並將此最佳參數應用於經NX10.建構之鞍型面以及…
    • 點閱:240下載:1

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    拋光墊性能分析於淺溝槽隔離化學機械拋光製程研究
    • 機械工程系 /106/ 碩士
    • 研究生: 王詩堯 指導教授: 陳炤彰
    • 化學機械平坦化(Chemical Mechanical Planarization, CMP)目前已被廣泛應用於IC產業中,隨著近年來半導體線寬不斷縮減,CMP製程之穩定性與重現性不斷面臨挑戰。而在…
    • 點閱:262下載:3
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